ISO-Klasse 6 Reinraumfertigung gewährleistet partikelarmen Versand und jahrzehntelange Zuverlässigkeit

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Steinmeyer-Gruppe und Feinmess Suhl präsentieren eine modulare Polarisationsfiltereinheit für DUV-Lithografie mit Abmessungen von 120 × 180 × 31 mm, die als Retrofit in bestehende Exposure-Systeme integriert werden kann. Drei DC-Motoren mit trockenlaufenden Edelstahl-PEEK-Gleitgewindetrieben ermöglichen eine filigrane Strahlsteuerung auf 1,5 µm, während trockener Stickstoffbetrieb und robuste Konstruktion einen wartungsfreien Dauerbetrieb rund um die Uhr garantieren. Die selbsthemmende Mechanik verhindert unbeabsichtigtes Nachrutschen, die ISO-Klasse-6-Reinraummontage und Klasse-1-Reinigung gewährleisten minimale Partikelzahlen bei hoher Auslastung.

Innovative Gleitgewindelösungen gewährleisten Reinheit Lebensdauer und Präzision in Lithografieanlagen

Der Gleitgewindetrieb hat einen Spindeldurchmesser von 3 mm (Foto: Steinmeyer Gruppe)

Der Gleitgewindetrieb hat einen Spindeldurchmesser von 3 mm (Foto: Steinmeyer Gruppe)

Die Steinmeyer-Gruppe in Dresden ist eine treibende Kraft für maßgeschneiderte Positioniersysteme in der Halbleiterindustrie. Als Teil des größten europäischen IKT- und Mikroelektronik-Hubs im Silicon Saxony bringt das Unternehmen über vier Jahrhunderte Erfahrung in der Entwicklung hochpräziser Antriebs- und Messtechnologien ein. In enger Partnerschaft mit Feinmess Suhl entstehen Lösungen mit kompromissloser Partikelfreiheit, außerordentlicher Langlebigkeit und mikrometergenaue Wiederholpräzision für modernste Fertigungslinien. Durch innovative Integration und präzise Steuerung tragen sie entscheidend zur Effizienzsteigerung.

Gleitgewindetrieb und DC-Motoren ermöglichen präzise Strahlanpassung im kompakten Miniaturformat

Auf einer kompakten Grundfläche von 120 × 180 mm bei einer Profiltiefe von 31 mm befinden sich drei einzelne Polarisationsfilter, angeordnet in einer Höhe von 15 mm. Jeder Filter kann per 75 mm Verfahrweg getrennt verschoben werden, um Strahlparameter optimal einzustellen. Drei elektronisch kommutierte DC-Motoren treiben präzise Gleitgewindetriebe an, die eine hohe Wiederholgenauigkeit und stabile Positionierung gewährleisten. Als Zusatzmodul für Wafer-Stepper erhöht es die Prozessautomatisierung im DUV-Bereich und Prozesssicherheit gewährleistet.

Trockener Stickstoff erzeugt hochvakuumartige tribologische Bedingungen präzise ohne Schmiermittel

Die Kombination aus nicht-rostendem Edelstahl (Spindel) (Foto: Feinmess Suhl GmbH)

Die Kombination aus nicht-rostendem Edelstahl (Spindel) (Foto: Feinmess Suhl GmbH)

Die Simulation eines nahezu hochvakuumähnlichen tribologischen Zustands in einer Stickstoffatmosphäre erfordert kompromisslose Werkstoffwahl. Nur Komponenten mit spiegelglatten Oberflächen, exzellenter Vakuumtauglichkeit und extrem niedriger Partikelemission sind geeignet. Steinmeyer und Feinmess Suhl setzen deshalb auf korrosionsfreien Edelstahl in Verbindung mit PEEK-Muttern, die durch feste Schmierfüllstoffe optimiert wurden. Dieses Konzept sichert hochpräzises Gleiten, gleichmäßige Wärmeableitung sowie langfristige mechanische Integrität und umgeht vollständig den Bedarf an flüssigen Schmiermitteln im System und reduziert Ausfallrisiken deutlich.

Robustes Design und zuverlässiger präziser Antrieb für industrielle Dauerlanglebigkeit

Mit dem trockenlaufenden Gleitgewindetrieb M3x1P0.5 (3 mm Spindeldurchmesser, 112 mm Länge) bietet Feinmess Suhl eine Lösung mit selbsthemmender Funktion, basierend auf spanlosem Kaltumformen und Gewinderollen. Die Technologie erzeugt extrem glatte Oberflächen und reduziert Reibung auf ein Minimum, was Verschleiß vorbeugt. Ohne zusätzliche Verriegelungselemente bleibt jede Position stabil. Die Wiederholgenauigkeit liegt bei 1,5 µm. Robuste Konstruktion und korrosionsbeständige Materialien sichern eine Lebensdauer von zehn Jahren.

Integrierte Antriebs-, Positionier- und Messtechnik beschleunigen signifikant maßgeschneiderte Entwicklungszyklen

Ultrakompakte, hochpräzise Positionierlösung zur Wafer-Belichtung (Foto: Bild: Steinmeyer Gruppe)

Ultrakompakte, hochpräzise Positionierlösung zur Wafer-Belichtung (Foto: Bild: Steinmeyer Gruppe)

Alle Teile werden zunächst vakuumtauglich gefertigt, um Verunreinigungen durch Gasblasen oder Feuchtigkeit auszuschließen. Die Endmontage findet in einem ISO Klasse 6 Reinraum statt, wobei strikt kontrollierte Luftströme und Partikelgrenzen eingehalten werden. Nach Fertigstellung erfolgt eine finale Reinigung nach ISO 14644-1 Klasse 1, um absolute Reinheit zu garantieren. Über 3.900 Quadratmeter Reinraumfläche ermöglichen flexible Produktionsverbünde. Für sensiblen Versand kommt zusätzlich eine Stickstoff-Inertverpackung zum Einsatz. Dies sichert höchste Produktqualität und Effizienz.

Engineering-Expertise kombiniert maßgeschneiderte Gleit- und Kugelgewindetriebe für wirtschaftliche Präzisionsfertigungslösungen

In der Halbleiterindustrie stehen höchste Anforderungen an Reinheit, Lebensdauer und Präzision im Fokus. Steinmeyer bietet Gleitgewindetriebe mit Trockenschmierung sowie hochpräzise Kugelgewindetriebe mit Flüssigschmierung, um passgenaue Antriebe für spezifische Anwendungen bereitzustellen. Ob empfindliches Wafer-Handling, optische Inspektionen oder anspruchsvolle EUV-Positionierung, die anwendungsspezifische Auswahl optimiert Prozessstabilität, minimiert Partikelbildung und steigert Effizienz. Modularer Aufbau, flexible Konfiguration und fundierte Engineeringkompetenz sichern zuverlässige Wafer- und Chip-Produktion mit exakter Steuerung, geringer Reibung und wirtschaftlicher Performance. Integration garantiert.

Der DUV-Polarisationsfilter setzt auf tribologisch optimierte Materialkombinationen aus nicht rostendem Edelstahl und mit Füllstoffen versehener PEEK, um in sauerstofffreier Stickstoffatmosphäre trockenlaufende Gleitgewindetriebe zu realisieren. Spanlose Kaltumformung sichert Spitzenoberflächen mit minimalem Verschleiß und 1,5 µm Wiederholgenauigkeit. Komplett in ISO-Klasse-6-Reinräumen montiert und inertgasverpackt, garantiert das Modul 24/7-Performance ohne Schmierstoffe. Anwender erreichen verbesserte Produktionssicherheit und reduzierte Partikelkontamination im Silicon Saxony. Mit Abmessungen von 120 × 180 × 31 mm lässt es sich in Wafer-Stepper integrieren.

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